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“超分辨光刻装备项目”通过国家验收 可加工22纳米芯片

2018年11月29日

PingWest品玩11月29日讯,根据新华社报道,国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收。该光刻机由中科院光电所研制,光刻分辨力达到 22 纳米,结合双重曝光技术后,未来还可用于制造 10 纳米级别的芯片。

报道称,项目在原理上突破分辨力衍射极限,建立了一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新路线,绕过国外相关知识产权壁垒。

光刻机是制造芯片的核心装备,它采用类似照片冲印的技术,把母版上的精细图形通过曝光转移至硅片上,一般来说,光刻分辨力越高,加工的芯片集成度也就越高。但传统光刻技术由于受到光学衍射效应的影响,分辨力进一步提高受到很大限制。为获得更高分辨力,传统上采用缩短光波、增加成像系统数值孔径等技术路径来改进光刻机,但技术难度极高,装备成本也极高。

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